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最后更新：2019-05-14
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生產(chǎn)企業(yè)：北京億誠恒達(dá)科技有限公司
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產(chǎn)品詳細(xì)介紹超高純氣體純化技術(shù)是有色金屬研究總院“十三五”重點產(chǎn)業(yè)化方向。在“十二五”期間軍工項目科研成果基礎(chǔ)上研發(fā)的氣體純化材料，具有處理量大、去除雜質(zhì)種類多、吸附深度大、使用壽命長等優(yōu)點，并以此為核心技術(shù)開發(fā)出多個型號的惰性氣體、氫氣和氮氣等超高純氣體純化裝置。同時，有研總院自身具備不斷創(chuàng)新的研發(fā)能力，成套的純化材料生產(chǎn)、純化器組裝技術(shù)，以及完善的純化器性能測試條件，可根據(jù)用戶需求設(shè)計完整解決方案、定制非標(biāo)產(chǎn)品，并提供各項性能檢測服務(wù)，目前產(chǎn)品已應(yīng)用于中國科學(xué)院理化所、中國核工業(yè)集團(tuán)、西南化工研究設(shè)計院、北京師范大學(xué)、北京航空航天大學(xué)、北京科技大學(xué)、國家有色金屬材料檢測中心，哈爾濱師范大學(xué)等單位獲得應(yīng)用。
UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器采用活性金屬為化學(xué)吸附劑，當(dāng)原料氣通過活性金屬純化床時，氣體中O 2，H2O，N2，CO，CO2，CH4等雜質(zhì)氣體與活性金屬發(fā)生化學(xué)吸附反應(yīng)，根據(jù)原料氣純度不同，一次純化后出口氣體純度即達(dá)到 7N-8N，可實現(xiàn)無人值守全自動運(yùn)行，并具有實時監(jiān)測、故障報警和反饋等功能。為保證產(chǎn)品質(zhì)量，純化器系統(tǒng)管路連接全部采用 Swagelok 全自動軌道焊機(jī)焊接，漏率低于 10－9 Pa；關(guān)鍵部件焊接、組裝、生產(chǎn)均在千級超凈環(huán)境中進(jìn)射流沖蝕試驗機(jī)便于在各種條件下測定的磨損率。磨損率可 以用來確定在給定操作條件的最佳材料。它也可以被用來預(yù)測使用壽命和壽命周期成本。
UP系列氣體純化器
1.jpg
委托上海正帆科技公司對 GRINM-UP1L 氬氣純化器性能檢測結(jié)果
氣體類型
H2
O2/Ar
N2
CH4
CO
CO2
H2O
單位
原料氣
0.074
<0.01
0.248
<0.01
<0.01
<0.01
未測試
ppm
純化后
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.01
<0.033
ppm
部分用于現(xiàn)場照片：
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山西中升鋼廠光譜儀配套UP10M使用現(xiàn)場，分析用氣體純度達(dá)到光譜儀檢測所需的最高級的綠色。
3.jpg
北京科技大學(xué)CVD設(shè)備用的多臺UP1L氬氣純化器
4.jpg
西南化工研究院定制 20MPa/30Nm3 氬氣純化器
5.jpg
搭載氫氣純化的電解水制氫/在線純化系統(tǒng)，用于人造鉆石生產(chǎn)高純氫場合
1.jpg
UP10M工業(yè)用超高純氣體純化器產(chǎn)品參數(shù)：
l 原料氣純度要求：≥99.999%，He/Ar/H2 /N2
l 產(chǎn)品氣純度：≥99.99999%
l 產(chǎn)品氣雜質(zhì)含量：
H2O ≤5ppb
O2 ≤10ppb
N2 ≤10ppb（原料氣非 N2 ）
H2 ≤10ppb（原料氣非 H2 ）
CO ≤10ppb
CO2 ≤10ppb
CH4 ≤10ppb
NMHC ≤10ppb
l 最大工作流量：≤10Nm3 /h，可定制2-30Nm3 /h
l 閥門：EP 級氣動隔膜閥
l 內(nèi)置顆粒過濾器：2 微米
l 顯示屏：組態(tài)控制軟件，觸摸屏工業(yè)計算機(jī)控制
l 最大工作壓力：2.0MPa，氬氣可定制20兆帕高壓
l 出入口氣體壓差：0.2MPa
l 進(jìn)出氣接口：1/4″VCR
l 純化柱及管路：EP級316不銹鋼
l 管路連接：Swagelok 自動軌道焊接
l 電源電壓及功率：220V-380V，10-20kw
l 產(chǎn)品外形尺寸：500×700×1600mm
氣體純化器是集成電路、LED、太陽能板、光纖、燃料電池等制造工藝中必不可少的重要裝備，并可有效提高離子濺射、薄膜生長、焊接、配氣等多項技術(shù)的工藝性能。UP10M 工業(yè)用超高純氣體純化器系列主要用于提供工業(yè)生產(chǎn)、分析測試中的超高純度工藝氣、保護(hù)氣等，也是氣體配制行業(yè)必不可少的關(guān)鍵設(shè)備之一。
氣體種類
產(chǎn)品用途
應(yīng)用領(lǐng)域
He
稀釋氣純化
半導(dǎo)體制造業(yè)中光刻、干刻、化學(xué)氣相沉積工藝中混合氣
Ar
等離子體氣體、載氣純化
半導(dǎo)體制造業(yè)中干刻蝕、離子注入等 工藝中等離子體氣體，直讀光譜儀載氣
N2
稀釋氣、檢漏氣純化
半導(dǎo)體制造業(yè)中稀釋氧化工藝、氣體濃度調(diào)節(jié)、檢漏氣體
H2
還原氣、反應(yīng)氣純化
IC、LED 等制造業(yè)中外延工藝和擴(kuò)散工藝氣體 |
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